GL310 Cluster Gen2全自動納米壓印光刻生產線集成了從納米壓印晶圓預處理工藝，直至納米壓印光刻整套工藝步驟。標配天仁微納CLIV(Contact?Litho?into?Vacuum)壓印技術，可實現200/300 mm晶圓及300x300mm/310x310 mm方形基底上全自動高精度(優于10 nm*)、高深寬比(優于10:1*)納米結構復制量產。
GL300 SR-F是天仁微納全自動步進式紫外納米壓印光刻設備，采用天仁微納專利CLIV壓印技術，確保壓印結構精度和結構填充完整性。設備支持自動對位、自動壓印和自動脫模，可高效地進行母模具制作或在基底上進行復雜結構的直接圖案化，拼版單元尺寸可靈活定義，輕松應對各種母版由小轉大需求，最大壓印面積可達310mm×310mm，降低納米壓印光刻母模具的制作成本，使低成本納米壓印生產成為可能。
GL400 SR-V是天仁微納全自動步進式（Step & Repeat）紫外納米壓印光刻生產線，可高效地進行母模具制作或在基底上進行復雜結構的直接圖案化，拼版單元尺寸可靈活定義，輕松應對各種母版由小轉大需求，最大壓印面積可達400mm×400mm，降低納米壓印光刻母模具的制作成本，使低成本納米壓印生產成為可能。
GL 2200 R2R是天仁微納新型全自動輥對輥（Roll to Roll）高精度紫外納米壓印光刻設備，可在1850mm~2200mm幅寬柔性基底上實現連續高速、高精度的微納結構復制。設備包含高精度壓印膠涂布工藝單元，可根據不同壓印膠黏度范圍靈活搭配不同涂布方式。
GL P6 R2P是天仁微納新型全自動面板級輥對版（Roll to PLate）全幅高精度紫外納米壓印光刻設備，可在G6面板（1850x1500mm）上實現高精度的微納結構復制。根據客戶工藝需求，可以靈活配置包含Plasma表面處理、增粘劑（Primer）涂布、烘烤、Inkjet/Slit Coating壓印膠涂布、R2P納米壓印、Photomask對準曝光、噴淋顯影、清洗、后處理等工藝模塊。
GL P6 SR是天仁微納新型全自動面板級步進式（Step & Repeat）高精度紫外納米壓印光刻設備，可將小面積模具通過步進式壓印方式高精度復制到G6面板（1850x1500mm）基底上，拼版單元尺寸可靈活精確定義，輕松應對各種母模具由小轉大需求，完美解決面板級微納結構母模具（Master）制造困難問題。
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